電子顯微（wēi）分析主要主要有哪些？
　　電子顯（xiǎn）微分析（xī）主要（yào）主要有透射（shè）電（diàn）子顯微分析、掃描電子（zǐ）顯微分析等等的材料分析方法，它是比較被廣泛運（yùn）用的！但是，電磁（cí）透鏡優勢會產生像差，我們應該怎（zěn）麽減少它的（de）相差呢？幾何（hé）像差是因為透鏡（jìng）磁場幾何形狀上的缺陷而造成的。采取穩定加速電壓的方（fāng）法可有效地減小色差！因為，色差散焦斑越大，透鏡（jìng）像分辯率越差，所以應盡可（kě）能減小（xiǎo）樣品（pǐn）厚度，以利於提高透鏡（jìng）像的分辯率！X射線（xiàn）也是能夠（gòu）進行（háng）精確的材料分析的！X射線不僅可以在（zài）材料分析上，在其他領域也是十分被廣泛應用的！
　　三豐三次元專業維護（hù）維修保養中講（jiǎng）述的材料分析（xī）包括化學組成、組織結構、微觀形貌等等方麵，材料分析技術可以分為很多種，其中，電子顯微分析（xī）方法就是以（yǐ）材料微觀（guān）形貌、結構與成（chéng）分分析為（wéi）基本目的。